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簡述碳化硅襯底制備的重點(diǎn)與難點(diǎn)
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半導(dǎo)體工藝演進(jìn)將持續(xù)到2036年？
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氧化鎵打開芯片大戰(zhàn)新篇章！
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什么是第三代半導(dǎo)體？一、二、三代半導(dǎo)體什么區(qū)別？
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半導(dǎo)體晶圓氧化工藝介紹
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